產(chǎn)品型號(hào)：GMSD2000

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

所在地：上海

更新時(shí)間：2024-06-13

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：

納米醫(yī)藥混懸劑超高速剪切研磨均質(zhì)機(jī)設(shè)計(jì)*，能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機(jī)多用，也可以單獨(dú)使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整?；鞈乙菏侵福阂怨腆w顆粒分散于分散媒中，顆粒與分散媒之間有相界面，稱為混懸液。

一、產(chǎn)品概述

納米醫(yī)藥混懸劑超高速剪切研磨均質(zhì)機(jī)，混懸劑均質(zhì)機(jī)，納米醫(yī)藥混懸液分散機(jī)，納米高剪切分散機(jī)，納米混懸液制備設(shè)備，納米混懸液分散機(jī)，進(jìn)口分散機(jī)，分散機(jī)廠家，分散機(jī)價(jià)格

二、產(chǎn)品簡(jiǎn)介

納米醫(yī)藥混懸劑超高速剪切研磨均質(zhì)機(jī)設(shè)計(jì)*，能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機(jī)多用，也可以單獨(dú)使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。混懸液是指：以固體顆粒分散于分散媒中，顆粒與分散媒之間有相界面，稱為混懸液。

混懸液的貯存存在物理穩(wěn)定性問題?；鞈乙褐兴幬镂⒘７稚⒍却?/span> ，微粒與分散介質(zhì)之間存在著物理界面，是混懸微粒具有較高的表面自由能，混懸劑處于不穩(wěn)定狀態(tài)。疏水性藥物的混懸劑比親水性藥物存在更大的穩(wěn)定性問題。若要制得沉降緩慢的混懸液，應(yīng)減少顆粒的大小，增加分散劑的粘度及減少固液間的密度差。

納米醫(yī)藥混懸液分散機(jī)，高剪切條件下的混懸液，高速通過工作腔定轉(zhuǎn)子間隙，由于轉(zhuǎn)子高速轉(zhuǎn)動(dòng)，物料在定轉(zhuǎn)子間隙內(nèi)，高速撞擊、剪切等綜合效應(yīng)，將較大的顆粒粉碎成很小的微粒，它們的直徑在0.01-2μm范圍內(nèi)。這個(gè)純粹的物理過程保持產(chǎn)品原有的活性，與此同時(shí)，細(xì)化了顆粒，獲得相對(duì)穩(wěn)定的混懸液。

三、納米高剪切分散機(jī)的特點(diǎn)

1具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。

2該設(shè)備可以適用于各種分散乳化工藝，也可用于生產(chǎn)包括對(duì)乳狀液、懸浮液和膠體的分散混合。

3三級(jí)分散機(jī)由定、轉(zhuǎn)子系統(tǒng)所產(chǎn)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。

GMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

第yi級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?/span> 在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

四、GMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%